旋片式真空泵是一种油封式机械真空泵，是真空技术中最基本的真空获得设备之一。旋片式真空泵可以抽除密封容器中的干燥气体，若附有气镇装置，还可以抽除一定量的可凝性气体。但它不适于抽除含氧过高的，对金属有腐蚀

1、不要再过冷的环境下使用。2、使用前可以先适当的预热。3、向轴承体内加入轴承润滑机油，观察油位应在油标的中心线处，润滑油应及时更换或补充。4、关好出水管路的闸阀和出口压力表及进口真空表。5、点动电机

真空技术中的清洁处理一般指的是真空装置的结构材料、填装材料和真空零部件的清洁处理。在各类真空工艺生产中，例如电真空工艺、真空镀膜工艺、真空焊接工艺等，都十分重视真空卫生问题。在电真空工艺中，要求装配到

真空泵真空度低的原因：一、真空泵本身漏气1、密封圈漏气。应检查所有密封部位的密封情况，更换破损的密封圈；2、气镇阀垫圈损坏，或未拧紧。应更换垫圈并拧紧气镇阀；3、排气阀片损坏，密封不好，应更换气阀片；

磁控溅射镀膜是现代工业中不可缺少的技术之一，磁控溅射镀膜技术正广泛应用于透明导电膜、光学膜、超硬膜、抗腐蚀膜、磁性膜、增透膜、减反膜以及各种装饰膜，在国防和国民经济生产中的作用和地位日益强大。镀膜工艺

在真空镀膜设备真空装置自动控制中，往往要进行真空测量，由于真空装置种类繁多、工作压力范围也不尽相同，因此，从105Pa—10-5Pa各真空区域的真空测量坞会遇到。通常使用的真空计有电阻真

众所同知,真空镀膜中常用的方法有真空蒸发和离子溅射,那么,蒸发镀膜和溅射镀膜有什么区别?不少新手朋友有这样的疑问,下面小编为大家做出的相关讲解。 真空蒸发膜是在真空度不低于10-2Pa的环境中,用电阻

常用物理气相沉积技术（PVD）之蒸镀、溅射、离子镀，这三种技术都要在真空条件下才能得以实现。制备现代薄膜材料，不管是物理气相沉积技术（PVD），还是化学气相沉积技术（CVD），都要涉及真空条件下气相产

灯丝控制极窗口靠近发射电子多，在同样的电源电压及束流下（束流为阳极截获电流与坩埚中电流之和）蒸发速率就快，但易受离子攻击，导致灯丝寿命缩短。灯丝与控制极（聚束极）国内、国外设备装配尺寸可以相同，都是同